受託合成・受託製造の日本ファインケミカル株式会社 | 製造設備

熊谷工業団地内に1989年に医薬品中間体の製造工場として建設いたしました。
1997年には第2工場を増設し、生産設備2棟・4系列へと大幅に設備増強いたしました。

製造設備は100L～5,000L釜のマルチパーパス・プラントで構成されております。
塩化メチレン、トルエン、アセトン、メタノール、THF、DMF等、タンク受入による効率的で安全な操業を、また、活性汚泥法による排水処理、洗浄塔による排気の洗浄等、環境に配慮した生産管理を行っております。

反応釜	GL	4 m3	1基		～FV	-20～140℃
		3 m3	4基		～FV	-20～140℃
		2.5 m3	1基		～FV	-20～140℃
		2 m3	2基		～FV	-20～140℃
		1.5 m3	2基		～FV	-20～140℃
		1 m3	6基		～FV	-20～140℃
		0.6 m3	1基		～FV	-20～140℃
		0.3 m3	1基		～FV	-20～140℃
		0.1 m3	1基		～FV	-20～140℃
	SUS	5 m3	1基		～FV	-20～140℃
		2 m3	2基		～FV	-20～140℃
		1 m3	1基		～FV	-20～140℃
		0.6 m3			～FV	-20～140℃
		0.2 m3			～FV	-20～140℃
		0.1 m3			～FV	-20～140℃
蒸留設備	総ガラス製	20L	単蒸留機		133Pa(1mmHg)	～200℃
		20L	30段オルダーショウ蒸留機		133Pa(1mmHg)	～200℃
		50L	ロータリーエバポレーター		～FV	～80℃
乾燥機	GL	1 m3	2基	コニカル	～FV	～80℃
	SUS	1.5 m3	1基	コニカル	～FV	～80℃
		0.7 m3	1基	コニカル	～FV	～80℃
		1 m3	1基	棚段	～FV	～80℃
圧濾過機	GL	1000φ	1基
圧濾過機	GL	600φ	1基		保温付	～80℃
遠心分離機	テフロン	42IN	2基	上部排出型
遠心分離機	テフロン	36IN	1基	下部排出型
屋外タンク貯槽	塩化メチレン	10 m3	1基
	トルエン	13 m3	1基
	アセトン	13 m3	1基
	メタノール	13 m3	1基
	DMF	13 m3	1基
	NaOH	6 m3	1基
	HCL	3 m3	1基
	液体窒素	10 m3	1基
除外設備	活性汚泥法		1基	2000ppm*15m3
	洗浄塔		1基
	脱臭装置		1基